 | • レポートコード：MRC-OD-59056 • 発行年月：2026年10月 • レポート形態：英文PDF • 納品方法：Eメール（納期：2～3日） • 産業分類：Service & Software |
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※下記記載のレポート概要・目次・セグメント項目・企業名などは最新情報ではない可能性がありますので、ご購入の前にサンプルを依頼してご確認ください。
レポート概要
極端紫外線リソグラフィー（EUVリソグラフィー）は、半導体製造において重要な技術の一つです。この技術は、極端紫外線（EUV）を用いて微細なパターンをシリコン基板に転写するプロセスです。EUVは波長が約13.5ナノメートルであり、従来の光リソグラフィー技術に比べてはるかに短い波長を持っています。この短波長により、より高解像度のパターンを形成することが可能となります。
EUVリソグラフィーの主な特徴には、微細化の進展が挙げられます。例えば、7nmや5nmプロセスノードの半導体デバイスの製造において、EUVは非常に効果的です。EUVを用いることで、トランジスタや配線の微細な構造を精密に形成できるため、集積回路の性能向上や消費電力の低減に寄与します。また、EUVリソグラフィーは、従来の多重露光技術に比べて工程数が少なく、製造コストの削減が期待されます。
EUVリソグラフィーには、主に2種類のプロセスがあります。一つは、単一露光を用いたEUVリソグラフィーで、特に高解像度が求められるパターンに適しています。もう一つは、マルチパターン技術を併用する方法で、より複雑なデザインに対応することができます。これにより、エレクトロニクスの進化に伴う設計要求に応えることが可能です。
EUVリソグラフィーの用途は、主に半導体製造に集中しています。プロセッサ、メモリ、ストレージデバイスなど、さまざまな電子デバイスがEUV技術を利用して製造されています。特に、AIや5G通信、自動運転技術などの先進的なアプリケーションでは、高性能な半導体が求められるため、EUVリソグラフィーの重要性がさらに増しています。
EUVリソグラフィーを支える関連技術も多岐にわたります。まず、EUV光源技術が挙げられます。現在、EUV光源はプラズマを用いた方法が主流であり、高い出力と安定性が求められます。また、EUV光を正確に制御するための光学系も重要です。反射鏡の設計や製造技術が進化しており、高い反射率を持つ鏡が必要です。さらに、EUVリソグラフィーでは、感光材料（フォトレジスト）の開発も欠かせません。微細なパターンを形成するためには、高感度かつ高解像度のフォトレジストが必要です。
今後、EUVリソグラフィーはさらなる進化を遂げると期待されています。半導体技術の進展に伴い、より微細なパターン形成が求められるため、新しい材料や技術の開発が進むでしょう。これにより、さらなる性能向上とともに、さまざまな産業分野への応用が広がることが期待されます。EUVリソグラフィーは、未来の技術革新を支える基盤として、ますます重要な役割を果たすことでしょう。
当資料（Global Extreme Ultraviolet Lithography Market）は世界の極端紫外線リソグラフィー市場の現状と今後の展望について調査・分析しました。世界の極端紫外線リソグラフィー市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を掲載しています。
最新調査によると、世界の極端紫外線リソグラフィー市場規模は2025年のxxx百万ドルから2026年にはxxx百万ドルになると推定され、今後5年間の年平均成長率はxx%と予想されます。
極端紫外線リソグラフィー市場の種類別（By Type）のセグメントは、レーザー生成プラズマ（LPP）、真空スパーク、ガス放電をカバーしており、用途別（By Application）のセグメントは、メモリ、IDM、ファウンドリ、その他をカバーしています。地域別セグメントは、北米、米国、カナダ、メキシコ、ヨーロッパ、ドイツ、イギリス、フランス、ロシア、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、極端紫外線リソグラフィーの市場規模を調査しました。
当資料に含まれる主要企業は、ASML、Motorola、Intel、…などがあり、各企業の極端紫外線リソグラフィー販売状況、製品・事業概要、市場シェアなどを掲載しています。
【目次】
世界の極端紫外線リソグラフィー市場概要（Global Extreme Ultraviolet Lithography Market）
主要企業の動向
– ASML社の企業概要・製品概要
– ASML社の販売量・売上・価格・市場シェア
– ASML社の事業動向
– Motorola社の企業概要・製品概要
– Motorola社の販売量・売上・価格・市場シェア
– Motorola社の事業動向
– Intel社の企業概要・製品概要
– Intel社の販売量・売上・価格・市場シェア
– Intel社の事業動向
…
…
企業別売上及び市場シェア（～2025年）
世界の極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– 種類別セグメント：レーザー生成プラズマ（LPP）、真空スパーク、ガス放電
– 種類別市場規模（販売量・売上・価格）
– 用途別セグメント：メモリ、IDM、ファウンドリ、その他
– 用途別市場規模（販売量・売上・価格）
主要地域における極端紫外線リソグラフィー市場規模
北米の極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– 北米の極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– 北米の極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
– 米国の極端紫外線リソグラフィー市場規模
– カナダの極端紫外線リソグラフィー市場規模
– メキシコの極端紫外線リソグラフィー市場規模
ヨーロッパの極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– ヨーロッパの極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– ヨーロッパの極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
– ドイツの極端紫外線リソグラフィー市場規模
– イギリスの極端紫外線リソグラフィー市場規模
– フランスの極端紫外線リソグラフィー市場規模
アジア太平洋の極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– アジア太平洋の極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– アジア太平洋の極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
– 日本の極端紫外線リソグラフィー市場規模
– 中国の極端紫外線リソグラフィー市場規模
– インドの極端紫外線リソグラフィー市場規模
– 東南アジアの極端紫外線リソグラフィー市場規模
南米の極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– 南米の極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– 南米の極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
中東・アフリカの極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– 中東・アフリカの極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– 中東・アフリカの極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
極端紫外線リソグラフィーの流通チャネル分析
調査の結論